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高純乙炔廠家告訴您:260種特種氣體的用

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高純乙炔廠家告訴您:260種特種氣體的用途伱都曉得不?

發布日期:2019-01-08 作者: 點擊:

  特種氣體是由兩大類氣體組成的。

  一類為單元高純氣體,另一類為混合氣體。

  到目前為止,特種氣體中單元純氣體共有260種。

  其中:

  電子氣體共114種,占總數的43.8%(實際常用的約44種);

  有機氣體共65種,占總數的25%;

  無機氣體共35種,占總數的13.4%;

  鹵碳素氣體共29種,占總數的11%;

  同位素氣體共17種,占總數的6.8%。

  本文專門介紹這260種單元高純特種氣體的用途。

  1.氮氣-N2,純度要求>99.999%,用作标準氣、在線儀表标準氣、校正氣、零點氣、平衡氣;用于半導體器件制備工藝中外延、擴散、化學氣相澱積、離子注入、等離子幹刻、光刻、退火、搭接、燒結等工序;電器、食品包裝、化學等工業也要用氮氣。

  2.氧氣-O2,>99.995%,用作标準氣在線儀表标準氣、校正氣、零點氣;還可用于醫療氣;在半導體器件制備工藝中用于熱氧化、擴散、化學氣相澱積、等離子幹刻等工序;以及用于光導纖維的制備。

  3.氩氣-Ar,>99.999,用作标準氣、零點氣、平衡氣;用于半導體器件制備工藝中晶體生長、熱氧化、外延、擴散、氮化、噴射、等離子幹刻、載流、退火、搭接、燒結等工序;特種混合氣與工業混合氣也使用氫。

  4.氫氣-H2,>99.999%,用作标準氣、零點氣、平衡氣、校正氣、在線儀表标準氣;在半導體器件制備工藝中用于晶休生長、熱氧化、外延、擴散、多晶矽、鎢化、離子注入、載流、燒結等工序;在化學、冶金等工業中也有用。

  5.氦氣-He,>99.999%,用作标準氣、零點氣、平衡氣、校正氣、醫療氣;于半導體器件制備工藝中晶體生長、等離子幹刻、載流等工序;另外,特種混合氣與工業混合氣也常用。

  6.氯氣-Cl2,>99.96%,用作标準氣、校正氣;用于半導體器件制備工藝中晶體生長、等離子幹刻、熱氧化等工序;另外,用于水淨化、紙漿與紡織品的漂白、下業廢品、污水、遊泳池的衛生處理;制備許多化學産品。

  7.氟氣-F2,>98%,用于半導體器件制備工藝中等離子幹刻;另外,用于制備六氟化鈾、六氟化硫、三氟化硼和金屬氟化物等。

  8.氨氣-NH3,>99.995%,用作标準氣、校正氣、在線儀表标準氣;用于半導體器件制備工藝中氮化工序;另外,用于制冷、化肥、石油、采礦、橡膠等工業。

  9.氯化氫-HCI,>99.995%,用作标準氣;用于半導體器件制備工藝中外延、熱氧化、擴散等工序;另外,用于橡膠氯氫化反應中的化學中間體、生産乙烯基和烷基氯化物時起氧氯化作用。

  10.一氧化氮-NO,>99%,用作标準氣、校正氣;用于半導體器件制備工藝中化學氣相澱積主序;制備監控大氣污染的标準混合氣。

  11.二氧化碳-CO2,>99.99%,用作标準氣、在線儀表标推氣、校正氣;于半導體器件制備工藝中氧化、載流工序警另外,還用于特種混合氣、發電、氣體置換處理、殺菌氣體稀釋劑、滅火劑、食品冷凍、金屬冷處理、飲料充氣、煙霧噴射劑、食品貯存保護氣等。

  12.氧化亞氮-N2O,(即笑氣),>99.999%,用作标準氣、醫療氣;用于半導體器件制備工藝中化學氣相澱積、醫月麻醉劑、煙霧噴射劑、真空和帶壓檢漏;紅外光譜分析儀等也用。

  13.硫化氫-H2S,>99.999%,用作标準氣、校正氣;用于半導體器件制備工藝中等離子幹刻,化學工業中用于制備硫化物,如硫化鈉,硫化有機物;用作溶劑;實驗室定量分析用。

  14.四氯化碳-CCl4,>99.99%,用作标準氣;用于半導體器件制備工藝中外延丫、化學氣相澱積等工序;另外,用作溶劑、有機物的氯化劑、香料的浸出劑、纖維的脫脂劑、滅火劑、分析試劑、制備氯仿和藥物等。

  15.氰化氫-HCN,>99.9,用于半導體器件制備工藝中等離子幹刻工序;制備氫氰酸溶液,金屬氰化物、氰氯化物;也用于制備丙烯睛和丙烯衍生物的合成中間體。

  16.碳酰氟-COF2,>99.99%,用于半尋體器件制備工藝中等離子幹刻工序;另外,用作氟化劑。

  17.碳酰硫-COS,>99.99%,用作校正氣;用于半導體器件制備工藝中離子注入工序;也用于有些羧基、硫代酸、硫代碳酸鹽和噻唑的合成。

  18.碘化氫-HI,>99.95%,用于半導體器件制備工藝中離子注入工序;還用于氫碘酸溶液制備。

  19.嗅化氫-HBr,>99.9%,用于半導體制備工藝中等離子幹刻工序;用作還原劑,制備有機及無機澳化合物。

  20.矽烷-SiH4,>99.999%,電阻率>100Ω/cm2,用于半導體器件制備工藝中外延、化學氣相澱積等工序。

  21.乙矽烷-Si2H6,>99.9%,用于半導體制備工藝中化學氣相澱積。

  22.磷烷-PH3,>99.999%,用于半導體器件制備工藝中外延、擴散、化學氣相澱積、離子注入等工序;磷烷與二氧化碳混合的低濃度氣體,可用于殺死糧倉的蟲卵和制備阻火化合物。

  23.砷烷-AsH3,>99.999%,用于半導體器件制備工藝中外延、擴散、化學氣相澱積、離子注入等工序。

  24.硼烷-B2H6,>99.995%,用于半導體器件制備工藝中外延、擴散、氧化等工序;用于有些化學工業合成過程:如氫硼化反應(即生成醇類),有機功能的衰退,制備較高的硼烷衍生物和碳甲硼烷化合物。

  25.鍺烷-GeH4,>99.999%,用于半導體器件制備工藝中外延、離子注入工序。

  26.銻烷-SbH3,>99.999%,用于半導體器件制備工藝中外延、離子注入工序。

  27.四氧甲矽烷-Si(OC2H5)4,>99.99%,用于半導體器件制備工藝中化學氣相澱積工序。

  28.乙烷-C2H6,>99.99%,用作标準氣、校正氣、在線儀表标準氣;用于半導體器件制備工藝中等離子幹刻工序;還用于冶金工業的熱處理,化學工業中制備乙醇、氧化乙二醇、氯乙烯、高醇類、乙醛等。

  29.丙烷-C3H8,>99.99%,用作标準氣、校正氣、在線儀表标準氣;用于半導體器件制備工藝中等離子幹刻工序;另外,用于燃料、冷凍劑、制備乙烯與丙烯的原料。

  30.硒化氫-H2Se,>99.999%,用于半導體器件制備工藝中擴散、離子注入工序。

  31.碲化氫-H2Te,>99,999%,用于半導體器件制備工藝中擴散、離子注入工序。

  32二氯二氫矽-SiH2Cl2,>99.999%,用于半導體器件制備工藝中外延、化學氣相澱積工序。

  33.三氯氫矽-SiHCl3,>99.999%,用于半導體器件制備工藝中外延、化學氣相澱積工序。

  34.二甲基碲-(CH3)2Te,>99.999%,用于半導體器件制備工藝中擴散、離子注入工序。

  35.二乙基碲-(C2H5)2Te,>99.999%,用途同(34)。

  36.二甲基鋅(CH5)2Zn,>99.999%,用于半導體器件制備工藝中化學氣相澱積工序。

  37.二乙基鋅(C2H5)2Zn,>99.999%,用途同(36)。

  38.三氯化磷-PCl3,>99.99%,用于半導體器件制備工藝中擴散,鍺的外延生長和離子注入工藝;PCl3是有機物的良好氯化劑;也用于含磷有機物的合成。

  39.三氯化砷-AsCl3,>99.99%,用于半導體器件制備工藝中的外延和離子注入。

  40.三氯化硼-BCl3,>99.99%,用于等離子幹刻、擴散;作硼載氣及一些有機反應的催化劑;精煉鎂、鋅、鋁、銅合金時從溶化金屬中除掉氮、碳、氧化合物。

  41.四氯化矽-SiCl4,>99.999%,用于半導體器件制備工藝中外延、化學氣相澱積工序。

  42.四氯化錫-SnCl4,>99.99%,用于外延、離子注入。

  43.四氯化鍺-GeCl4,>99.999%,用于離子注入。

  44.四氯化欽-TiCl4,>99.99%,用于等離子幹刻。

  45.五氯化磷-PCl5,>99.99%,用于外延、離子注入。

  46.五氯化銻-Sb=Cl5,>99.99%,用于外延、離子注入。

  47.六氯化鑰-MoCl6,>99.9%,用于化學氣相澱積。

  48.三嗅化硼-BBr3,>99.99%,用于半導體器件制備工藝中離子注入工序和制備光導纖維。

  49.三嗅化磷-PBr3,>99.99%,用于外延、離子注入。

  50.磷酞氯-POCI3,>99.999%,用于擴散工序。

  51.三氟化硼-BF3,>99.99%,用于離子注入;另外,可作載氣、某些有機反應的催化劑;精煉鎂、鋅、鋁、銅合金時從熔化金屬中除掉氮、氧、碳化物。

  52.三氟化磷-PF3,>99%,用于外延、離子注入工序;另外用作氟化劑。

  53.三氟化砷-AsF3,>99.9%,用途同(52)。

  54.二氟化氨-XeF2,>99.9%,用于外延、離子注入工序;用于固定模具氨的考察及原子反應堆排放廢氣中氮的測定。

  55.三氟氯甲烷-CClF3,(R-13),>99.995%,用于等離子幹刻工序;冷凍劑、空調均可用。

  56.三氟甲烷-CHF3,(R-23),>99.999%,用于等離子幹刻工序;低溫冷凍劑。

  57.三氟化氮-NF3>99.99%,用于等離子幹刻工序;火箭推進劑、氟化劑。

  58.三氟嗅甲烷-CBrF3,(R13B1),>99.99%,用于等離子幹刻工序;還用于空調、低溫冷凍及滅火劑。

  59.三氟化硼-11-B11F3,>99.99%,用于離子注入工序(天然硼的同位素,含11B8l%,10B19%。出售的11B是濃縮含有96%同位素BF3);還用于制備光導纖維。

  60.四氟化碳-CF4,(R-14),>99.99%,用于等離子幹刻工序;在很低溫度下作為低溫流體用;也用于中性及惰性氣體。

  61.四氟化硫-SF4,>98%,用于等離子幹刻工序;氟化劑、表面處理劑。

  62.四氟化矽-SiF4,>99.99%,用于化學氣相澱積工序;制備氟矽酸及其鹽類。

  63.四氟化鍺-GeF4,>99.999%,用于離子注入工序。

  64.五氟化磷-PF5,>99.9%,用于離子注入、等離子幹刻工序;另外,用作氟化劑,聚合、烴化及脫烴化反應、烴類裂化反應時作催化劑。

  65.五氟氯乙烷-C2ClF6,(R-115),>99.99%,用于等離子幹刻工序;另外,作冷凍劑、煙霧噴氣劑。

  66.五氟化砷-AsF5,>99%,用于外延、離子注入工序,氟化劑。

  67.六氟乙烷-C2F6,(R-116),>99.99%,用于等離子幹刻工序;用作冷卻、冷凍劑和空調;單體生産的原料;化學反應中的添氟劑、電器設備的絕緣劑。

  68.六氟化硫-SF6,>99.99%,用作标準氣;用于化學氣相澱積工序;由于在高電壓下具有很高的電阻,用作電器設備的絕緣劑;檢漏氣體,實驗室中作色譜儀的載氣。

  69.六氟化鎢-WF6,>99.99%,用于化學氣相澱積工序;強烈的氟化劑;也用作鎢載體。

  70.六氟化氧-(CF3)2O2,>99.99%,用于等離子幹刻工序。

  71.六氟乙酰-(CF3)2CO,>99.99%,用途同(70)。

  72.六氟乙酞氧-(CF3CO)2O,>99.99%,用途同(70)。

  73.六氟化铼-ReF6,>97%,用于離子注入工序;氟化劑。

  74.八氟丙烷-C3F8,(R-218),>99.9%,用于等離子幹刻工序;與氟利昂相混合作冷凍劑;高壓電的絕緣劑。

  75.八氟環丁烷-C4F8,(RC318),>99.99%,用于等離子幹刻工序;用作冷卻劑、冷凍劑;作電器和電子設備的氣體絕緣。

  76.十二氟戊烷-C5F12,>99.9%,用于等離子幹刻工序;也可與CF4相混用。

  77.三甲基鋁-(CH3)3Al,>99.999%,用于化學氣相澱積工序;金屬的有機合成。

  78.三甲基镓-(CH3)3Ga>99.999%,用途同(77)。

  79.三甲基銻-(CH3)3Sb,>99.999%,用途同(77)。

  80.三甲基锢-(CH3)3In,>99.999%,用途同(77)。

  81.三乙基鋁-(C2H5)3Al,>99.999%,用途同(77)。

  82.三乙基镓-(C2H5)3Ga,>99.999%,用途同(77)。

  83.四乙基鉛-(C2H5)4Pb,>99.999%,用于化學氣相澱積工序。

  84.丙烯腈-C3H3N,>99.9%,用于等離子幹刻工序。

  85.1,1,2-三氯乙烯-C2HCl3,>99.99%,用作标準氣、校正氣、醫療氣;用于半導體器件制備工藝中熱氧化工序;另外,用于金屬的脫脂劑和脂肪、油、石蠟等萃取劑,衣服幹洗,冷凍劑,殺菌劑。

  86.甲烷-CH4,99.999%,用作标準氣、校正氣、在線儀表标準氣;作燃料、宇宙飛船中氣體電池。

  87.甲烷硫醇-CH3SH,>99.5%,用作标準氣、校正氣;用于有機合成;作為噴氣燃料添加劑,殺真菌劑和蛋氨酸的中間體。

  88.一甲胺-CH3NH2,>99%,用于硫化促進劑、藥物、染料和炸藥等,并作溶劑、有機合成、醋酸人造纖維。

  89.甲醇-CH3OH,>99.9%,用作标準氣,與空氣混合後作校正氣;用于制備甲醛和農藥鄉用于有機物質的萃取劑和酒精的變性劑。

  90.二甲胺-(CH3)2NH,>99%,用作抗氧化劑;在溶液中作浮洗.劑、汽油穩定劑、橡膠加速劑等。

  91.二甲醚-(CH3)2O,>99.9%,在化學工業中用作配制合成橡膠和甲硫醚;用作甲基劑、萃取劑、溶劑;也用作制冷劑。

  92.乙炔-C2H2,>99.9%,用作标準氣、校正氣;化學工業中的中間體,如制備乙烯、乙醛、醋酸乙烯、氯乙烯、乙烯醚等;用于原子吸收光譜。

  93.乙烯-C2H4,>99.99%,用作在線儀表标準氣、标準氣、校正氣;是化學

  工業合成中的重要原料,生産塑料的中間體,生産乙醇、醋酸、氧化乙烯、氯乙烯、乙苯等的原料;也用于焊接和切割、冷凍劑、某些水果、蔬菜生長的加速劑。94.氧化乙烯-C2H4O,99.9%,用作标準氣、校正氣、醫療氣;與CO2、R11、R21相混合作消毒劑,文物保管,皮革消毒,清洗衣料均可采用;化學工業中用作中間體,生産液體或固體聚乙二醇、乙醇胺類等。

  95.溴代乙烯-C2H3Br,>99.9%,用作有機合成的中間體,用聚合法與共聚法來制備塑料。

  96.一乙胺-CH3CH2NH2,>99%,水溶液中含有70%乙胺,作為下列化學工業制備中的中間體:着色劑,電鍍池、硫化增速劑等;還用于制藥、表面活性劑、萃取劑。

  97.四氟乙烯-C2F4,>99%,在生産塑料時作為一種重要的單體,如泰氟隆等。

  98.乙醛-CH5CHO,>99.9%,用作校正氣;用于制備酷酸、醋醉、醋酸乙酷、正丁醇、合成樹脂等。

  99.二甲基二硫醚-CH3S2CH3,>99.9%,用作校正氣、溶劑。

  100.二甲基硫醚-CH3SCH3>99.9%,用作校正氣、溶劑。

  101.乙醇-C2H5OH,>99.9%,用作校正氣;用于溶劑,制備染料、塗料、藥物、合成橡膠等。

  102.乙酰氯-CH3COCl,99.99%,用于乙酰化劑和化學試制。

  103.1-羟亞乙基-1,1雙磷酸-C2H8P2O7,>99.99%,簡稱HEDPA,用于特殊的洗滌、紡織漂白分離劑、磨料和環境衛生;在石油和氣田中用作防腐劑。

  104.環丙烷-(CH2)3,>99%,用于有機合成;醫藥上作麻醉劑。

  105.甲基乙炔-C3H4>99%,用作在線儀表标準氣、校正氣;用于制備丙酮;化學工業中作合成中間體。

  106.六氟丙酮-CF3COCF3,>99.9%,是強烈的反應氣,常與脂肪酮發生化學反應,用這些酮類可制備不同的産品,如穩定的液體、溶劑、水泥、單體、共聚物,以及農業及藥物産品。

  107.三甲胺-(CH3)3N,>99%,用作标準氣,溶液中含25%的三甲胺可作抗組胺治療處理;在化學工業中作中間體,用來生産殺蟲劑、潤濕劑、發泡劑、合成樹脂等表面活性劑。

  108.丙烯-C3H8,>99.9%,用作标準氣、校正氣、在線儀表标準氣;在化學工業上用作制備異丙醇、氧化丙烯、氧基醇類、四氯化碳、聚丙烯等。

  109.丙二烯-C3H4,99%,在線儀表标準氣;用于有機合成中間體。

  110.氧化丙烯-C3H6O,>99.9%,(又稱1,2-環氧丙烷),用于制備丙二醇和泡沫塑料;也是醋酸纖維素、硝酸纖維素和樹脂等的溶劑。

  111.甲基乙烯醚-CH3COCH3,>99.5%,用作标準氣;用于有機合成中間體;塑料和合成樹脂制備時的原料及共聚物的生産。

  112.六氟丙烯-C3F6,>99.9%,用于有機合成中間體。

  113.丙酰氯-CH3CH2COCl,>99.9%,用于制備鹽酸、丙酸;用作氧化劑。

  114.正丁烷-C4H10,>99.99%,用作标準氣、校正氣;用作燃料,商業上主要和異丁烷混合用;化學工業中作制備中間體:乙烯、丙烯、丁烯等;作煙霧噴射劑;充入溫度計球作标準蒸汽壓型的壓力表;與氦混合用作電離粒子計算器。

  115.異丁烷-iC4H10,>99.99%,用作标準氣、校正氣;用途同(114)。

  116.乙基乙炔C4H5,>99%,用作标準氣、校正氣;化學工業中作為合成中間體。

  117.環丁烷-(CH2)4,>99%,作為液體溶劑,或與其它溶劑混合使用;也可作為合成中間體。

  118.丁烯-1-C4H8,>99.9%,用作标準氣、校正氣;用于有機化合物的制備中間體;催化脫氫生成丁二烯。

  119.順丁烯-2C4H8,>99%,用作标準氣、校正氣;用于有機化合物的制備中間體;催化脫氫生成丁二烯、酸式硫酸鹽,加水生成丁醇-2等;也可用作溶劑。

  120.反丁烯-2-C4H8,>99%,用作标準氣、校正氣;用途同(119)。

  121.順與反丁烯-2-C4H8,>99%,用作校正氣;用途同(119)。塑料和樹脂,生産尼龍-6;也是火箭燃料組成部分。

  122.1,3丁二烯-C4H6,>99%,用作校正氣;用聚合法和共聚法來生産合成橡膠、塑料和樹脂,生産尼龍-66;也是火箭燃料組成部分

  123.異丁烯-iC4H8,>99.9%,用作校正氣,用于有機中間體,使氧化産生丙酮和甲酸,在液相或氣相中催化使生成雙異丁烯等;也可用來制備合成橡膠,有很高的耐酸堿度;是良好的絕緣體。

  124.八氟-2-丁烯-C4H8(全氟丁烯),>99.5%,用于有機合成中間體。

  125.二甲乙基胺-(CH3)2NC2H5,99.99%,一接觸到氧化劑,反應劇烈;與二氧化碳混合,遇到汞會産生爆炸反應。

  126.正戊烷-C5H12,>99%,用作标準氣、校正氣;作溶劑及合成中間體。

  127.異戊烷-iC5H12,>99%,用作校正氣;用途同(126)。

  128.2,2二甲基丙烷-C5H12,(又叫新戊烷),>99.9%,是生産異丁烯的原料,用于生産合成丁烯橡膠。

  129.3-甲基-1-丁烯-C5H10,(甲基丁烯),>99.95%,用于有機合成中間體;也用于增加燃料的辛烷值;用于塑料的聚合。

  130.特戊酰氯-(CH3)3CCOCl,>99.99%,可制備氯化氫與特戊酸;可與強氧化劑反應。

  131.苯-C5H6,>99.999%,用作标準氣、校正氣、零點氣;是染料、塑料、合成像膠、合成樹脂、合成纖維、合成藥物和農藥的原料。

  132.己烷-C6H14,>99.9%,用作标準氣、校正氣;作溶劑。

  133.三乙基鋁三氯-C6H15Al2Cl3,>99.99%,用于合成中間體;烯類聚合催化劑,芳烴衍生物聚合的催化劑。

  134.環己烷-C6H12,>99.99%,用作标準氣;用于制備環己醇和環己酮;用于合成耐6;在塗料工業中廣泛用作溶劑,也是樹脂、脂肪、石蠟、油類的極好溶劑。

  135.己二酞氯-ClOC(CH2)4COCl,>99.99%,用于制備氯化氫與肥酸。

  136.甲苯-C7H8,,>99.99%,用作零點氣、校正氣;用于制造糖精、染料、藥物和炸藥等;也用作溶劑。

  137.苯乙烯-C8H8,,>99.9%,用作校正氣;用于制樹脂、塑料、合成橡膠等。

  138.2-乙基己酰氯-C5H10,C2H5,COCl,>99.9%,可用于制備氯化氫和2-乙基己酸。

  139.辛酰氯-CH3,(CH2,)6COCl,>99.9%,是氧化劑;可用于制備鹽酸與辛酸。

  140.氨基咪哇酮-C9H15,N3O3,>99.9%,用作還原劑。

  141.壬酰氯-CCH3(CH2)7COCl,>99.9%,用于制備鹽酸與壬酸。

  142.新癸酰氯-C10H19OCl,>99.9%,用于制備鹽酸與新癸酸。

  143.三異丁基鋁-C12H27,Al,(簡稱TIBA),>99.99%,用于合成中間體,是聚合烯類和二烯類的催化劑。

  144.十二酰氯-CH3(CH2)10COCl,>99.9%,用于制備鹽酸與月桂酸。

  145.十八酰氯-CH3(CH2)18COCl,>99.9%,用于制備鹽酸與硬醋酸。

  146.酚酞黃-C20H14O4,>99.9%,醫療用作瀉藥。

  147.空氣(或合成空氣)-21%O2,79%N2,用作零點氣,超零點級空氣中含CnHm<0.lppm,零點級空氣中含CnHm<0.2ppm。零點級空氣經常用于色譜儀火焰離子化檢定器和總碳量分析儀中的氧化劑。

  148.仲氫-H2,>99.99%,用作火箭推進劑;核工業中用于氣泡室;冷電子工程低溫液态供固體電路研究用。

  149.純水-H2O,>99.9999%,用作标準氣、校正氣。

  150.氖-Ne,>99.999%,用作标準氣、特種混合氣;用于充發光燈泡、電子管、訊号燈、等離子體研究、熒光燈中啟動器、火花室、蓋革一彌勒管、

  激光器;用作低溫冷卻劑。

  151.氪氣-Kr,>99.995%,用作标準氣、特種混合氣、燈泡與電子工業用氣。

  152.氙氣-Xe,>99.995%,用作标準氣、特種混合氣,用于電光源、電子工業、充填閘流管和半波整流管。

  153.溴氣-Br2,>99.99%,用于化學工業中制備澳化氫和其它嗅化合物、氧化劑、實驗試劑;也用于染料和攝影工業。

  154.臭氧-O3,>99.99%,用作醫療氣,用于外科設備的消毒,人類用水和遊泳池的淨化,工業廢品的處理,污物消毒;紡織纖維、紙漿和糖類的漂白,樟腦的制備,礦物油及其衍生物的淨化。

  155.氰氣-C2N2,>99%,用作焊接與切割耐熱金屬,與氧化劑、臭氧和氟氣混合後作火箭與導彈推進劑;醫學上作薰蒸劑;用于許多有機合成中的媒介物。

  156.氯化氰-ClCN,>99%,用于有機合成;與薰蒸氣體相混合可作熱源。

  157.氟化氫-HF,>99.9%,用于制備氟化物、氟氣;在異構化、冷凝過程、聚合、幹燥、水解反應等作為催化劑;在有些有機或無機反應中作為氟化劑。

  158.亞硝酰氯-NOCl,>99%,用于有機化合物的重氮化、硝化、氯化作用;也用于石油熟化劑。

  159.過氟二氯氧ClO3F,>99%,用于與氟鹵素類相混合,成為火箭發動機的液态氧化劑;也可供街族化合物作選擇性的氟化劑。

  160.碳酰氯-COCl2,(光氣),>99.9%,用于染料、藥物、除荞劑、殺蟲劑、合成泡沫、樹脂和聚合等有機合成;還用作氯化劑。

  161.硫酰氟-SOF2,>99.5%,用于制備氟碳化合物;是優良的殺蟲薰蒸劑,用于集裝箱、農作物種子、林木種子的薰蒸,倉庫、古建築、園林果木蛀幹性害蟲及白蟻的防治,以及文物檔案的保護;也用作催化劑。

  162.羰基鎳-Ni(CO)4,>99.95%,用于制備高純鎳;制成金屬鏡及很薄的鎳箔;是碳化反應中有效的催化劑。

  163.羰基鐵-Fe(CO)5在有的文獻中寫成Fe(CO)4〕,>99.95%,主要作鐵的載體,在汽油中作抗爆劑。

  164.磷酸-H3PO4,>99.99%,用作校正氣;用于制磷酸鹽、甘油磷酸醋、磷酸按肥料;還作化學試劑。

  165.過氙酸鈉-Na4XeO6·8H2O,>99.99%,強氧化劑,可測定水中汞含量。

  166.一氧化碳-CO,>99.995%,用作标準氣、校正氣、在線儀表标準氣;與氫和其它氣體混合作燃料氣;用于從含有鐵、鑽和銅的礦砂中回收鎳;也可用于制備酸類、醚類和醇類化學品

  167.二氧化硫-SO2,>99.99%,用作标準氣、校正氣、在線儀表标準氣;用于啤酒、葡萄酒、肉類的防腐;硫化物和氧硫化物的制備;油類和食品的漂白劑;硫化紙漿的制備;制冰工業的冷卻劑。

  168.二氧化氮-NO2(N2O4),>99.9%,用作标準氣;用于一些氧化反應的催化劑;在丙烯酸鹽類精餾時用于防止聚合,用作有機物的硝化劑、氧化劑、火箭燃料一、面粉漂白劑。

  169.二氟化氧-OF2,>99.5%,用作氧化劑,是高能火箭推進劑系統中的組成部分。

  170.三氧化二氮-N2O3,>99.5%,與堿化合生成純堿亞硝酸鹽類;在特殊燃料系統中作氧化劑,也用于萜烯類的鑒定。

  171.三氧化氙-XeO3,>99.99%,用于通過氧化還原代替測定氧化溶液的含量(Xe6→Xe0)。

  172.三氧化硫-SO3,>99.99%,用于化學工業中制備硫酸與發煙硫酸;是硫化劑;也用于染料工業。

  173.三氟化氯-ClF3,>99.5%,用作火箭導彈推進劑,當接觸到燃料時(自發能力)能使其立刻開始反應;也用作油井管道切割劑,管道深達2公裡也可用它來切斷管子。

  174.三氟化溴-BrF5,>99.5%,用作氟化劑和電解溶劑;也用于火箭導彈的推進劑。

  175.四氟化氮-N2F4,>99.9%,強氧化劑,可制備三氟化氮。

  176.四氟化氙-XeF4,>99.9%,可用于制備過氙化合物和三氧化氙溶液。

  177.五氟化溴-BrF5,>99%,用作氟化劑;也用于火箭導彈的推進劑。

  178.五氟化氯-ClF5,>99%,強烈的氧化劑,腐蝕性比三氟化氯小,可制備有機及無機氟化物;可作空間推進器的助燃劑。

  179.五氟化碘-IF5,>99%,用作氟化劑和燃燒劑。

  180.六氟化钼-MoF5>99.9%,強烈的氟化劑,也用于鑰的載體。

  181.六氟化碲-TeF5,>99.9%,用作氟化劑和啼的載體。

  182.氟三氯甲烷(R11)-CCl3F,>99.95%,用于冷凍工業、空調、溶劑

  、滑冰場、鹽水和海水裝置、煙霧噴射劑、發泡劑、檢漏、紡織品的幹洗。

  183.二氟二氯甲烷(R12)-CCl2F2,>99.9%,用作标準氣、校正氣;用于低溫空調、食品貯藏、冷凍工業、煙霧噴射劑、檢漏、膨脹劑、氣相絕緣材料。

  184.二氟氯溴甲烷(R12B1)-CBrClF2,>99.9%,用于石油、丙酮、二硫化碳生産中及電器着火時的滅火劑。

  185.二氟二溴甲烷(R12B2)-CBr2F2,>99.9%,用于快速聚合;用作滅火劑。

  186.二氯氟甲烷(R21)-CHCl2F,>99.9%,用于氣候很熱時的空調、冷凍劑、溶劑、煙霧噴射劑、化學媒介物。

  187.二氟氯甲烷(R22)-CHCiF2,>99.9%,用于冷卻和空調;在低溫噴霧特

  殊情況下作煙霧噴射劑;氟化聚合物的生産和檢漏。

  188.二氟甲烷(R32)-CH2F2,>99%,用作冷凍劑,與五氟氯乙烷(R115)混合後形成共沸混合物的冷凍劑。

  189.氯甲烷(R40)–CH3Cl,>99.5%,用作冷凍劑,局部麻醉處理;氣溶膠工業中當作噴射氣體;有機合成中用作甲基劑;作溶劑或萃取劑。

  190.溴甲烷(R40B1)-CH3Br,>99.9%,用于有機合成(着色劑)中甲基劑;低溫溶劑、冷凍劑;土壤與種子的薰蒸劑。

  191.氟甲烷(R41)-CH3F,>99.9%,以混合物用作非燃燒性的煙霧噴射劑。

  192.l,1,2,-三氯三氟乙烷(R113)-C2Cl2F3,(俗稱TTE),>99.9%,用作冷凍劑、傳熱介質;制備三氟氯乙烯(R1113)的中間媒介物。

  193.1,2-二氯四氟乙烷(R114)-C2Cl2F4,>99%,用作冷凍、冷卻、空調,單獨與二氟二氯甲烷(R12)混合作為化妝品煙霧噴射劑。

  194.1,2-二嗅四氟乙烷(R114B2)-C2Br2F4,>99.5%,用作溶劑、滅火劑,與其它氟碳化合物相混合作噴射劑。

  195.五氟氯乙烷(R115)-C2ClF5,>99.9%,用作冷凍劑、煙霧噴射劑。

  196.二氟氯乙烷(R142B)-C2H3ClF2,>99%,用作冷凍劑、溶劑、與非燃燒性的鹵碳類化合物相混合作噴射劑。

  197.三氟乙烷(R143)-C2H3F3,>99.9%,用作冷凍劑。

  198.1,1-二氟乙烷(R152A)-C2H4F2,>99%,用作冷凍劑、煙霧噴射劑、有機合成中間媒介物。

  199.氯乙烷(R160)-C2H3Cl,>99.9%,用于局部麻醉的醫療處理,外科和皮膚科的噴霧醫療;在染料工業中當作乙基劑、冷凍劑、溶劑、殺蟲劑的生産。

  200.氟乙烷(R161)-C2H5F,>99.9%,用于合成中間媒介物。

  201.R-12與R152A共沸混合物(R500)-CCl2F2/C2HF5,>99.9%,用作冷凍劑、空調。

  202.R-22與R115共沸混合物(R502)-CHClF2/C2H4F2,>99.9%,用作冷凍劑、空調、噴霧。

  203.R-23與R13共沸混合物(R503)-CClF3/CHF3,>99.9%,用作冷凍劑、空調。

  204.全氟丁烷(R601)-C4F10,>99%,用作絕緣氣體。

  205.三氟氯乙烯(R1113)-C2ClF3,>99%,用于制備潤滑脂、油類、

  蠟類、塑料的聚合劑,聚三氟氯乙烯的單體。

  206.三氟溴乙烯(R113B1)-C2BrF3,>99%,用于聚合反應和化學中間體。

  207.二氟氯乙烯(R1122)-C2HClF2,>99.9%,用于化學合成中間體。

  208.1,1-二氟乙烷(R1132A)C2H2F2,>99%,是一個很重要的單體,用于生産塑料及彈性體。

  209.氯乙烯(R1140)-C2H3Cl,>99.9%,用作标準氣;用作聚合劑、有機合成的中間體。

  210.氟乙烯(R1140)-C2H3F,>99.9%,用作聚合劑、有機合成的中間體。

  211.氦-3–He3,>99.99%,充計數管;作稀釋制冷機超低溫冷源,可達4.5×10-3K。

  212.氦-4-He4,>99.99%,在空間應用的低溫火箭燃料、核反應堆中重水及所有常溫與低溫的液體均可用氦-4作壓送氣。

  213,氘-D2,>99.95%,在核工業研究中應用在氖核加速器中作為抛射體;當放射丫能射線時作為中子源;在研究化學反應時,包括氫化合物,可作為軌跡用;用于生産重水(D2O)。

  214.氚-T2,>99.95%,用作标準氣,控制每升為1000微居裡,有很廣泛的活潑性,與氖氩混合作為載氣,可用于檢測微量氮氣及其它稀有氣體。’

  215.氧-18-O218,>99%,可制備H218O、D218O、S18O2。

  216.氮-15-N215,>99%,可制備15NH3、16NO、15NO等。

  217.氩-36–Ar36,>99.99%,計量值用。

  218.氩-40-Ar40,>99.99%,計量值用。

  219.氖-20Ne20,>99.99%,計量值用。

  220.氖-22Ne22,>99.99%,計量值用。

  221.氪-85-Kr85,>99.99%,标準氣,控制每升為10微居裡,充燈泡用。

  222.氪-86-Kr86,>99.9%用作标準氣。

  223.氙-133-Xe133,>99.9%,充燈泡用。

  224.碳-13-C13,>99%,可制備13CO2、13C6H8、13CO、13COS、13C2H4等。

  225.碳-14-C14,>99%,用作标準氣,控制每升為100微居裡。

  226.碳-18-C18,>99%>99%,可制備C18O2、C18O。

  227.硫-35-S35,>99%,用作标準氣,控制每升為100微居裡。

  (1983年5月整理)

  最近發現的12種,前10種為電子氣,後2種為有機氣體。

  1.三氯甲烷-CHCl3,>99.9%,用于等離子幹刻。

  2.三氯乙烷-C2HCl3,>99.9%,用于熱氧化。

  3.二甲基二氯矽烷-(CH3)2SiHCl2,>96%,用于外延、化學氣相澱積。

  4.二甲基氯矽烷-(CH3)2SiHCl,>96%,用于外延、化學氣相澱積。

  5.三甲基氯矽烷-(CH3)3SiCl,>95%,用于外延、化學氣相澱積。

  6.二氟四氯乙烷-C2Cl4F2,>99.9%,用于等離子幹刻。

  7.六氟化矽-SiF2,>99.9%,用于等離子幹刻。

  8.八氟甲烷-CF8,>99.9%,用于等離子幹刻。

  9.異十氟丁烷-i-C4F10,>99.9%,用于等離子幹刻。

  10.十二氟乙烷-C2F12,>99.9%,用于等離子幹刻。

  11.乙烯基甲基醚-C3H3O,>99.5%。

  12.乙烯基乙炔-CH2CHC2H,>50%。

  (1983年7月補充)

  1.二甲基镉-(CH3)2Cd,純度>99.999%,電子氣,用于MOCVD。

  2.二乙基镉-(C2H5)2Cd,>99.999%,電子氣,用于MOCVDo

  3.四甲基錫-(CH3)4Sn,>99.999%,電子氣,用于MOCVD。

  4.四乙基錫-(C2H5)Sn,>99.999%,電子氣,_用于MOCVD。、

  5.三甲基砷-(CH3)3As,>99.999%,電子氣,用于MOCVD。

  6.三乙基砷-(C2H5)3As,>99.999%,電子氣,用于MOCVD。

  7.三乙基銻-(C2H5)3Sb,>99.999%,電子氣,用于MOCVD。

  8.二乙基铟-(C2H5)2ln,>99.9999%,電子氣,用于MOCVD。

  9.二甲基铟-(CH3)2In,)99.9999%,電子氣,用于MOCVD。

  10.二乙基鎂-(C2H5)2Mg,>99.999%,電子氣,用于MOCVD。

  11.二甲基汞-(CH3)2Hg,>99.999%,電子氣,用于MOCVD。

  12.二乙基汞-(C2H5)2Hg,>99.999%,電子氣,用于MOCVD。

  13.三甲基磷-(CH3)3P,>99.999%,電子氣,用于MOCVD。

  14.三乙基磷-(C2H5)3P,>99.999%,電子氣,用于MOCVD。

  15.三異丁基鋁-(i-C4H9)3AI,>99.9999%,電子氣,用于MOCVD。

  16.丙矽烷-Si3H8,>99%,電子氣,用于CVD。

  17.三氯化鋁-AlCl3,>99.999%,電子氣,用于外延。

  18.五氟化钽-TaF5,>99.9%,電子氣,用于離子注入。

  19.五氟化铊-TlF5,>99.9%,電子氣,用于離子注入。

  20.氯乙烯-C2H3Cl,99.9%,校正氣,用作冷凍劑。

  21.氟乙烯-C2H3F,>99.9%,校正氣,用于制聚乙烯樹脂和其它單體的共聚物。


高純乙炔


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